新型显示科技创新中心

 
        研究内容：面向新型显示产业技术变革的新趋势，重点开展印刷与柔性显示、激光显示、μLED显示、高度集成半导体信息显示(HISID)、光场显示等研究。开展量子点背光技术、印刷OLED和QLED发光材料与器件技术、印刷与柔性TFT技术、印刷与柔性显示集成技术、新型TFT器件研制及其在感知和人工智能方面的应用、印刷显示器薄膜封装技术等相关研究；开发优质低成本激光晶体、超晶格非线性光学晶体、低成本高像质消散斑、绿激光模组、量子点背光模组等核心工程产业化技术，建设示范生产线；研究μLED显示发光芯片制备、芯片与微米级芯片(MicroIC)巨量转移技术、芯片与基板键合技术、快速检测技术、全彩μLED显示集成技术、驱动和应用、显示色彩转换和光效提取关键技术、显示背光模组和大尺寸μLED显示屏关键技术产业化开发、研究高性能光场显示技术与器件，攻克显示面板像素的高效利用和复用技术，突破大视角下透镜阵列的优化设计和制作，以及像差校正技术，提升光场显示3D图像分辨率和清晰度等。 
        发展目标：研制高性能印刷与柔性TFT，开发出新型印刷发光材料、器件、面板技术并产业化；实现激光显示规模产业聚集；μLED背光模组及显示屏产业化；实现高度集成半导体信息显示器件(HISID)；解决光场显示3D视角与分辨率之间的制约关系。促进实验室在此领域的成果产业转化，成为国内外重要一支研究力量，奠定在国内外领先的研究地位。