关于“GaN干法刻蚀机、高深宽比硅和二氧化硅干法刻蚀机采购”项目采购需求公示

致各潜在供应商：

　　闽都创新实验室（下称“实验室”）聚焦光电信息产业发展的重大科学问题和核心技术，布局战略性先进光电材料、新型照明与显示、高速通讯与感知3个方向。现因课题研究方向的需要，国产设备尚不能满足采购需求，需要购买下列进口产品，内容如下：

　　实验室拟采购“GaN干法刻蚀机、高深宽比硅和二氧化硅干法刻蚀机采购”项目，预算总金额为9800000元，具体内容详见下表，技术参数、商务条件详见附件《采购需求》。

　　各潜在供应商如认为国内供应商能够生产符合采购需求中的技术参数要求的下列产品，请在采购需求公示截止时间前提出，并同时将书面材料原件以及相关佐证材料加盖供应商公章送至实验室，潜在供应商未在采购需求公示截止时间前递交书面材料的或递交了书面材料但未提供明确证明材料的，将视其意见无效，无法满足采购需求。

　　采购需求公示截止时间及各潜在供应商递交材料的截止时间为：2021年11月11日17：30时为止。

　　采购人单位名称：闽都创新实验室

　　通讯地址：福州市闽侯县上街镇高新区海西高新区科技园高新大道8号

　　电话：0591-63173852

　　联系人：王女士

    附件一：GaN干法刻蚀机、高深宽比硅和二氧化硅干法刻蚀机采购需求 

 　闽都创新实验室

　　2021年11月8日