原位近常压X射线光电子能谱仪

仪器型号：Proven-X NAP 产地：德国 仪器制造商：德国SPECS公司 放置地点： 海西研究院园区嘉锡楼107 仪器状态： 调试中

        仪器简介： 近常压X射线光学电子能谱仪（NAP-XPS）是近年兴起的高端科研、分析型XPS。它突破了传统的软X射线光谱学只能应用于高真空或者超高真空下的壁垒，可以在近常压的条件下进行光电子能谱测量。采购该仪器后使得表面催化等表面物理化学过程的研究，尽可能在接近样品需要特设环境（导入气氛、样品加热、电化学反应等）的真实条件下进行原位反应和原位测量，可原位观测材料生长过程的各种细节，会将现有的科研水平和科研方法提上一个更高的台阶。 
        主要功能：近常压X射线光电子能谱仪采用独立差分抽气系统，并配有高压预处理室(HPC)、残余气体分析器(RGA)和手套箱等附属装置，可实现特定反应气氛下固体表面电子结构的原位XPS分析。能够实现样品在环境气压最高25 mbar的条件下的光电子能谱原位测量。样品最高可以加热到1100 K，能够满足大部分催化反应、固-气界面等方面的研究，在越来越多的学科中获得广泛应用，特别是在物理化学、无机化学、材料学中的应用越来越深入。 
        主要技术参数： 
        核心组件：能量分析器PHOIBOS 150 NAP；1D-DLD探测器；μ-FOCUS-NAP X射线光源；4轴全自动样品台，可配激光加热；近常压样品室；荷电中和、离子源等。 
        工作压力最大可达25 mbar；4轴样品架，可选择激光加热和帕尔贴冷却，样品最高可到1000 ℃，最低为150 K；分线器接收角≥44°，能量分辨率＜10 meV；光斑尺寸≤250 μm。四级质谱仪EV2-220-000,用于残余气体分析，质量范围为1-200 amu。